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J-GLOBAL ID：200903036115455583

CVDガス供給装置

Inventor： 水越 克郎 ,  本郷 幹雄 ,  高田 敦仁 ,  河路 幹規 ,  山田 利夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994098687
Publication number (International publication number)：1995310185
Application date： May. 12, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 温度に対して不安定なCVDガス材料を、品質劣化させること無く安定して供給し得るCVDガス供給装置の提供。【構成】 固体または液状のCVDガス材料を収納する容器と、該容器内のCVDガス材料を設定温度に保つための恒温槽と、CVDガス材料を加熱してガス化する加熱手段とを備え、ガス化されたCVDガスを成膜処理を行う反応容器内に配管を介して供給するCVDガス供給装置において、前記恒温槽に前記容器内のCVDガス材料を冷却して低温保管する冷却手段を設ける。

Claim (excerpt)：

固体または液状のCVDガス材料を収納する容器と、該容器内のCVDガス材料を設定温度に保つための恒温槽と、CVDガス材料を加熱してガス化する加熱手段とを備え、ガス化されたCVDガスを成膜処理を行う反応容器内に配管を介して供給するCVDガス供給装置において、前記恒温槽に前記容器内のCVDガス材料を冷却して低温保管する冷却手段を設けたことを特徴とするCVDガス供給装置。

IPC (2)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205