Pat
J-GLOBAL ID：200903036144909771

中性子線回転照射装置

Inventor：
密本 俊典

About 密本 俊典


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (2)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008034882
Publication number (International publication number)：2009189643
Application date： Feb. 15, 2008
Publication date： Aug. 27, 2009
Summary：
【課題】小型化を図ることを可能にした中性子線回転照射装置を提供する。【解決手段】 中性子線回転照射装置1は、イオンビームが照射されて中性子を発生するターゲット7を有する中性子発生部2と、中性子を減速する減速材9と、中性子発生部2の出射側に設けられたコリメータ3と、イオンビームを偏向させるための2つの偏向電磁石4,5と、イオンビームを輸送するビームダクト6とを備える。ターゲット収容部10とビームダクト6Cとを連通する連通口10aは、ターゲット収容部10の頂部10bよりも低い位置に配置され、イオンビームのターゲット7への照射方向F1と中性子の取出方向F2とがなす角度αは90°である。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
被照射体に対して回転自在に設けられ、前記被照射体に中性子線を照射する中性子線回転照射装置であって、 イオンビームが照射されて中性子を発生するターゲットと、 前記ターゲットから発生した中性子を減速する減速材と、 前記減速材によって減速された中性子を被照射体側に取り出す取出口と、 前記ターゲットに照射するイオンビームを偏向させる偏向電磁石と、 イオンビームを前記ターゲットまで輸送するビームダクトとを備え、 イオンビームの前記ターゲットへの照射方向と中性子の取出方向とは異なることを特徴とする中性子線回転照射装置。
IPC (7)：
A61N 5/10 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  G21K 5/10 ,  G21K 1/087 ,  H05H 6/00
FI (7)：
A61N5/10 H ,  G21K1/00 N ,  G21K5/02 N ,  G21K5/08 N ,  G21K5/10 M ,  G21K1/087 D ,  H05H6/00
F-Term (13)：
2G085BA02 ,  2G085BA14 ,  2G085BA16 ,  2G085BA17 ,  2G085BE04 ,  2G085DA03 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC07 ,  4C082AE03 ,  4C082AG12 ,  4C082AG53 ,  4C082AG60
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM