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J-GLOBAL ID：200903036195142190

ガス浄化方法

Inventor： 堀井 雄二 ,  山下 岳史 ,  古田 覚士
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 明田 莞
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994070777
Publication number (International publication number)：1995275656
Application date： Apr. 08, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 NOX の除去に際し、特に、単一の吸着器を用いて被処理ガスを間欠的に処理する場合に、吸着NOX がN2に還元されずに再放出されたり、添加還元剤の一部が漏洩する可能性を減らすとともに、NOX 除去のみの場合に比較して、設備および運転上の追加をほとんど必要とすることなく共存するCOやH.C.濃度を低下させるガス浄化方法を提供する。【構成】 被処理ガスを炭素質吸着剤充填層に通して、被処理ガス中に含まれる窒素酸化物、一酸化炭素および炭化水素類を吸着させた前記炭素質吸着剤充填層に再生ガスを供給しながら 150〜200 °Cの温度に加熱して、吸着させたガスを脱離させ、脱離させたガス中に含まれる窒素酸化物の濃度を反応当量的に上回る濃度の窒素酸化物還元剤を脱離させたガスに添加し、次いで、このガスを脱硝触媒充填層と酸化触媒充填層にこの順に通してから系外に放出するガス浄化方法である。

Claim (excerpt)：

被処理ガスを炭素質吸着剤充填層に通して、被処理ガス中に含まれる窒素酸化物、一酸化炭素および炭化水素類を吸着させた前記炭素質吸着剤充填層に再生ガスを供給しながら 150〜200 °Cの温度に加熱して、吸着させたガスを脱離させ、脱離させたガス中に含まれる窒素酸化物の濃度を反応当量的に上回る濃度の窒素酸化物還元剤を脱離させたガスに添加し、次いで、このガスを脱硝触媒充填層と酸化触媒充填層にこの順に通してから系外に放出することを特徴とするガス浄化方法。

IPC (5)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/04 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94

FI (3)：

B01D 53/34 129 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 103 B