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J-GLOBAL ID:200903036213252364

磁気光学探傷方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 河野 登夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992359461
Publication number (International publication number):1994201655
Application date: Dec. 26, 1992
Publication date: Jul. 22, 1994
Summary:
【要約】【目的】 高速全面探傷を可能とする磁気光学探傷方法及びその実施に使用する装置を提供する。【構成】 レーザー4から照射された光ビームを光走査器5にて、丸棒鋼K近傍に配置された磁気光学素子列3の長手方向に走査するようになしてある。そして磁気光学素子3による反射光は検光子6にて偏光面の回転量を検出し、光導棒7で集光し、光検出器8にて電気信号として検出し、さらに増幅器9にて増幅する。一方、光走査器5にて走査する光走査タイミングを光検出器12にて検出し、このタイミング信号を移相器13にて夫々必要量移相し、交流電源2及びゲート回路10へ与える。これにより交流電源2の磁化電流ピークは光走査タイミングに同期せしめられ、またゲート回路10では磁化電流ピーク時だけゲート信号を出力し、この間のみ増幅された前記電気信号をモニタ11へ出力するようになしてある。
Claim (excerpt):
鋼材を磁化し、光ビームを、前記鋼材の表面近傍に設置された磁気光学素子列へ照射してその長手方向へ走査し、前記表面に存在する疵により形成される漏洩磁場による前記磁気光学素子列からの反射光の変化を検出して探傷を行う方法において、前記鋼材を交流磁化し、前記光ビームの走査期間と交流磁化電流の周波数とを同期させることを特徴とする磁気光学探傷方法。

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