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J-GLOBAL ID：200903036222944546

パターン近接効果補正方法、プログラム、及び装置

Inventor： 春木 珠江
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996236960
Publication number (International publication number)：1997298156
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は、設計者の技量に依存することなく近接効果補正を効率的に行うパターン近接効果補正方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】パターンデータに基づいて形成されたビームパターンを対象に露光し対象にパターンを形成するときに、パターンの近接効果を補正する方法は、パターンを対象に所望の形で形成するためのビームパターンの理想的ビーム強度プロファイルを連続に変化するビーム強度プロファイルとして計算し、パターンデータに於てパターンのエッジを複数の線分に分割し、線分の法線方向に沿った第1の変位と線分の延長方向に沿った第2の変位との少なくとも一つを表現する変位コードを線分に割り当て、パターンデータから求められるビーム強度プロファイルが理想的ビーム強度プロファイルに近づくように、変位コードを変化させて線分を変位させる各段階を含む。

Claim (excerpt)：

パターンデータに基づいて形成されたビームパターンを対象に露光し該対象に該パターンを形成するときに、該パターンの近接効果を補正する方法であって、a)該パターンを該対象に所望の形で形成するための該ビームパターンの理想的ビーム強度プロファイルを、連続的変化を有したビーム強度プロファイルとして計算し、b)該パターンデータに於て該パターンのエッジを複数の線分に分割し、該線分の法線方向に沿った第1の変位と該線分の延長方向に沿った第2の変位との少なくとも一つを表現する変位コードを該線分に割り当て、c)該パターンデータから求められるビーム強度プロファイルが該理想的ビーム強度プロファイルに近づくように、該変位コードを変化させて該線分を変位させる各段階を含むことを特徴とする方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G06F 15/18 550 ,  G06F 17/50 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/04

FI (6)：

H01L 21/30 541 J ,  G06F 15/18 550 C ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/04 M ,  G06F 15/60 658 M ,  H01L 21/30 541 M