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J-GLOBAL ID：200903036236722538

二次元pH測定装置

Inventor： 高松 修司 ,  冨田 勝彦 ,  中西 剛 ,  田邉 裕貴
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996318774
Publication number (International publication number)：1997203723
Application date： Nov. 13, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 JIS Z8802に規定された標準液以外によっても校正を行うことができ、しかも再現性よく高精度な測定を可能とする二次元pH測定装置を提供すること。【解決手段】 半導体基板4の一方の面にpH測定用のセンサ面6を形成し、前記半導体基板4に対してプローブ光14を照射して信号を取り出すようにした二次元pH測定装置において、前記半導体基板4の前記センサ面6と同じ側にISFET15を組み込み、このISFET15の出力によって校正を行えるようにした。

Claim (excerpt)：

半導体基板の一方の面にpH測定用のセンサ面を形成し、前記半導体基板に対してプローブ光を照射して信号を取り出すようにした二次元pH測定装置において、前記半導体基板の前記センサ面と同じ側にISFETを組み込み、このISFETの出力によって校正を行えるようにしたことを特徴とする二次元pH測定装置。

IPC (3)：

G01N 27/416 ,  G01N 27/26 381 ,  G01N 27/414

FI (4)：

G01N 27/46 U ,  G01N 27/26 381 A ,  G01N 27/30 301 R ,  G01N 27/30 301 Z