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J-GLOBAL ID:200903036272736030

ニッケル無電解めっき装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997034760
Publication number (International publication number):1998226888
Application date: Feb. 19, 1997
Publication date: Aug. 25, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ガラス盤を水平方向に支持する方式において、めっき液と還元剤をよく混じり合わせることができ、かつ、酸素リッチな雰囲気にならず、最低限に必要な量の液ですむニッケル無電解めっき装置を提供する。【解決手段】 光ディスクの金属原盤を作製するために、ガラス盤上に記録信号に応じて凹凸のパターンが形成されたガラス盤1の上に無電解めっきを施す装置であって、上記ガラス盤表面を触媒で活性化する前処理工程を施した後、ニッケル金属イオンを含むめっき液と還元剤を別々の気体噴霧ノズル6,7,70,71で霧状にして上記ガラス盤上に塗布するようにしている。
Claim (excerpt):
光ディスクの金属原盤を作製するために、ガラス盤上に記録信号に応じて凹凸のパターンが形成されたガラス盤(1)の上に無電解めっきを施す装置であって、上記ガラス盤表面を触媒で活性化する前処理工程を施した後、ニッケル金属イオンを含むめっき液と還元剤を別々の気体噴霧ノズル(7,6,70,71)で霧状にして上記ガラス盤上に塗布することを特徴とするニッケル無電解めっき装置。
IPC (2):
C23C 18/36 ,  G11B 7/26 501
FI (2):
C23C 18/36 ,  G11B 7/26 501

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