厚さ測定装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：上野英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995245354
Publication number (International publication number)：1996101020
Application date： Aug. 29, 1995
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【課題】設置自由度の高い高精度・高安定度光干渉厚さ測定。【解決手段】厚さ測定装置と被測定フィルム間を光ファイバと集光レンズでつなぎ、装置の設置自由度を確保した。光ファイバと集光レンズの位置を調整し開口数を変えて反射光量を得る。また基準光源により随時干渉計をモニタできるようにした。測定用光源にもパワーのとれるものをさいようした。

Claim (excerpt)：

光信号を発生するための低コヒーレンス光源と、前記光信号をフィルムに送り、かつ前記フィルムから反射した光を収集して収集光信号を発生する、光ファイバから成る第1の光結合手段と、前記収集光信号を干渉計に結合し、前記収集光信号から成る第1の光信号と、前記第1の光信号に対して時間的にオフセットした前記収集光信号から成る第2の光信号のコヒーレント和から成る干渉光信号を発生する第2の光結合手段と、前記時間的オフセットを変化させるための手段と、相異なる前記オフセット値に関して、前記干渉光信号及び前記オフセットの検出を行うための手段から構成される、フィルム厚を測定するための厚さ測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平2-167411
特開平4-315939
特開昭55-029708

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