リンス剤組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998094270
Publication number (International publication number)：1999295902
Application date： Apr. 07, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】紫外線照射設備等を必要とせず、しかもレジストパターンを損傷させることなく、現像することができる薬剤およびそれを用いた現像方法を提供すること。【解決手段】分子中にアミノ基、イミン基および式:【化1】で表わされる基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基と、炭素数1〜20の炭化水素基とを有し、分子量が45〜10000である窒素含有化合物を含有してなるリンス剤組成物、ならびにpHが10以上である現像液でレジストを現像する工程と、前記リンス剤組成物を用いてリンスする工程とを含むことを特徴とする現像方法。

Claim (excerpt)：

分子中にアミノ基、イミン基および式:【化1】で表わされる基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基と、炭素数1〜20の炭化水素基とを有し、分子量が45〜10000である窒素含有化合物を含有してなるリンス剤組成物。

IPC (2)：

G03F 7/32 501 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/32 501 , H01L 21/30 569 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-077951
特開平1-221741
特開平4-012359

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