Pat

J-GLOBAL ID：200903036331212334

パターン染色物の製造方法

Inventor： 陶山 寛志 ,  角岡 正弘
Applicant, Patent owner： 日本写真印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996332765
Publication number (International publication number)：1998158982
Application date： Nov. 27, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：

【要約】【目的】 高解像度で光照射部の膜形状が染色後にも変形していないパターン染色物の製造方法を提供する。【構成】 キノンと光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質とを有効成分として含有する高分子薄膜1に部分的な光照射をした後、該高分子薄膜1を染色液と接触させることにより、光照射部のみを選択的に染色する。

Claim (excerpt)：

キノンと光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質とを有効成分として含有する高分子薄膜に部分的な光照射をした後、該高分子薄膜を染色液と接触させることにより、光照射部のみを選択的に染色することを特徴とするパターン染色物の製造方法。

IPC (4)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 ,  D06P 5/20 ,  G02B 5/20 101

FI (4)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 D ,  D06P 5/20 D ,  G02B 5/20 101