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J-GLOBAL ID:200903036364506694
膜において有用なグラフトコポリマーの製造プロセス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004536714
Publication number (International publication number):2005539117
Application date: Sep. 17, 2003
Publication date: Dec. 22, 2005
Summary:
グラフトコポリマーの製造プロセスが提供され、このプロセスは、ポリマーベース材料を一定線量の電離放射線に曝露する工程、およびその後この照射されたベース材料をマイクロエマルジョンに接触させる工程を含み、このマイクロエマルジョンは、少なくとも一つのフルオロスチレンモノマー、水、および、水に混和性である溶剤を含む。好ましい実施形態では、このベース材料は、ポリ(エチレン-co-クロロトリフルオロエチレン)である。このグラフトコポリマーは、イオン交換膜を含む膜の形にされてもよい。
Claim (excerpt):
グラフトコポリマーの製造プロセスであって、該プロセスが、以下:
ポリマーベース材料を一定線量の電離放射線に曝露するプロセス;ならびに
該照射されたベース材料を、マイクロエマルジョンに接触させるプロセスであって、該マイクロエマルジョンは、
少なくとも一つのフルオロスチレンモノマー、
水、および
少なくとも部分的に水に混和性である溶剤、を含む、工程、
を包含する、プロセス。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (18):
4F074AA38
, 4F074CD11
, 4F074CD17
, 4F074DA43
, 4F074DA47
, 4J026AA12
, 4J026AA13
, 4J026AA26
, 4J026BA08
, 4J026BB01
, 4J026BB02
, 4J026CA09
, 4J026DB03
, 4J026DB04
, 4J026DB06
, 4J026EA09
, 4J026FA02
, 4J026GA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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水性ベースのグラフト化
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-570216
Applicant:インターナショナル・パワー・ピーエルシー
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特許第4035106号
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イオン交換膜並びにその製造方法及び使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-313269
Applicant:ポールコーポレイション
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