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J-GLOBAL ID:200903036364506694

膜において有用なグラフトコポリマーの製造プロセス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004536714
Publication number (International publication number):2005539117
Application date: Sep. 17, 2003
Publication date: Dec. 22, 2005
Summary:
グラフトコポリマーの製造プロセスが提供され、このプロセスは、ポリマーベース材料を一定線量の電離放射線に曝露する工程、およびその後この照射されたベース材料をマイクロエマルジョンに接触させる工程を含み、このマイクロエマルジョンは、少なくとも一つのフルオロスチレンモノマー、水、および、水に混和性である溶剤を含む。好ましい実施形態では、このベース材料は、ポリ(エチレン-co-クロロトリフルオロエチレン)である。このグラフトコポリマーは、イオン交換膜を含む膜の形にされてもよい。
Claim (excerpt):
グラフトコポリマーの製造プロセスであって、該プロセスが、以下: ポリマーベース材料を一定線量の電離放射線に曝露するプロセス;ならびに 該照射されたベース材料を、マイクロエマルジョンに接触させるプロセスであって、該マイクロエマルジョンは、 少なくとも一つのフルオロスチレンモノマー、 水、および 少なくとも部分的に水に混和性である溶剤、を含む、工程、 を包含する、プロセス。
IPC (2):
C08F291/00 ,  C08J9/36
FI (2):
C08F291/00 ,  C08J9/36
F-Term (18):
4F074AA38 ,  4F074CD11 ,  4F074CD17 ,  4F074DA43 ,  4F074DA47 ,  4J026AA12 ,  4J026AA13 ,  4J026AA26 ,  4J026BA08 ,  4J026BB01 ,  4J026BB02 ,  4J026CA09 ,  4J026DB03 ,  4J026DB04 ,  4J026DB06 ,  4J026EA09 ,  4J026FA02 ,  4J026GA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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