面位置検出装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992247748
Publication number (International publication number)：1994097045
Application date： Sep. 17, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】スループットの低下を招くことなく、被検面上の複数の箇所の上下方向の位置を同時に検出すると共に、光学系が簡略化された面位置検出装置を提供すること。【構成】投射光学系(9,10)により、被検面(1a)に対して斜め方向から第1面上の所定のパターン(8a)を投射し、集光光学系(11,12) により、第2面(25a) 上で所定のパターンの像を形成する。そして、走査手段(30,31) により、この像と検出器(17)の受光面(17a) とを相対的に走査させて、検出器により、この像を光電的に検出する。ここで、第1面と被検面とは、投射光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たし、被検面と第2面とは、集光光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たす。

Claim (excerpt)：

第1面上に形成された所定のパターンと、被検面に対して斜めの方向から前記所定のパターンの像を投射する投射光学系と、前記被検面で反射された光束を集光して前記所定のパターンの像を第2面上に形成する集光光学系と、前記所定のパターンの像を光電的に検出する検出器とを有し、該検出器の出力に基づいて、前記被検面の面位置を検出する面位置検出装置において、前記検出器の受光面と、前記所定のパターンの像とを相対的に走査させる走査手段を有し、前記第1面と前記被検面とは、前記投射光学系の主平面に関して、シャインプルーフの条件を満たすと共に、前記被検面と前記第2面とは、前記集光光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たすことを特徴とする面位置検出装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G02B 7/28 , G03F 9/00 , H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 311 N , G02B 7/11 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平1-253603
特開平3-246411
特開昭63-275912

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