クラスターイオンビームスパッター装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西澤利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994244413
Publication number (International publication number)：1996104980
Application date： Oct. 07, 1994
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】【構成】静電レンズ電極(4)とアパーチャー(5)を組み合わせたクラスターサイズ選別装置をガスクラスターイオンビーム装置内に配設する。【効果】クラスターイオンビーム照射装置内に備えた静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を持つ装置によって簡便に、かつ高性能なスパッター加工が可能になる。

Claim (excerpt)：

クラスターイオンビーム照射装置において、静電レンズとアパーチャーを組み合わせたクラスターサイズ選別装置を備えていることを特徴とするスパッター装置。

IPC (3)：

C23C 14/32 , H01J 37/08 , H01J 37/317

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

クラスターイオンビームの質量分離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088224 Applicant：新技術事業団
ガスクラスターイオン援用による化合物薄膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088223 Applicant：新技術事業団
特開昭60-100421

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