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J-GLOBAL ID：200903036400462542
成膜装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宇高 克己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994171081
Publication number (International publication number)：1996035069
Application date： Jul. 22, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：
【要約】【目的】 幅広いダイヤモンドライクカーボン膜を幅方向に均一で効率良く成膜できる装置を提供することである。【構成】 マイクロ波ECRプラズマCVD法により成膜が行われる装置であって、走行手段と、この走行手段によって走行させられる長尺体を案内する磁石製のロールと、このロールに沿って設けられた断面が円弧状の電極板と、この電極板に接続された電源と、前記ロールと断面円弧状電極板との間の空間にガスを供給するガス供給手段とを具備する成膜装置。
Claim (excerpt)：
マイクロ波ECRプラズマCVD法により成膜が行われる装置であって、走行手段と、この走行手段によって走行させられる長尺体を案内する磁石製のロールと、このロールに沿って設けられた断面が円弧状の電極板と、この電極板に接続された電源と、前記ロールと断面円弧状電極板との間の空間にガスを供給するガス供給手段とを具備することを特徴とする成膜装置。
IPC (4)：
C23C 16/50
, C23C 16/26
, C23C 16/54
, G11B 5/84
