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J-GLOBAL ID：200903036408953324
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
飯塚 雄二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996111991
Publication number (International publication number)：1997283421
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：
【要約】【課題】 マスクと感光基板の焦点位置の計測を高精度で行い得る投影露光装置を提供すること。【解決手段】 マスク(12)上に形成されたフォーカス計測用のマーク(100)と;ステージ(3)上に形成され、投影光学系(11)を介して照明される露光光を透過する開口部(38)と;開口部(38)とマーク(100)の投影光学系(11)を介した像とを相対走査する走査手段(2)と;ステージ(3)を投影光学系(11)の光軸方向に移動させる移動手段とを備える。そして、相対走査及びステージ(3)の光軸方向への移動によって生じる、開口部(38)を透過する光の光量変化に基づき、検出手段(24,26)によって、投影光学系(11)の焦点位置を検出する。
Claim (excerpt)：
露光用の光を所定パターンが形成されたマスクに照明する照明系と、前記マスク上のパターンの像をステージ上に配置された感光基板に投影転写する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記マスク上に形成されたフォーカス計測用のマークと;前記ステージ上に形成され、前記投影光学系を介して照明される前記露光光を透過する開口部と;前記開口部と前記マークの前記投影光学系を介した像とを相対走査する走査手段と;前記ステージを前記投影光学系の光軸方向に移動させる移動手段と;前記相対走査及び前記ステージの前記光軸方向への移動によって生じる、前記開口部を透過する光の光量変化に基づいて前記投影光学系の焦点位置を検出する検出手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
