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J-GLOBAL ID：200903036419702412

全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製造方法

Inventor： 大石 浩 ,  木村 正生 ,  藤城 光一 ,  稲葉 真司 ,  岸本 聡一郎 ,  大脇 隆正 ,  本山 秋男
Applicant, Patent owner： ユニチカ株式会社 ,  新日鐵化学株式会社 ,  新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 成瀬 勝夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991281942
Publication number (International publication number)：1993097988
Application date： Oct. 03, 1991
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 透明性に優れていると共に光学的歪みが小さく、しかも、流動性や機械的強度にも優れており、特に光学的機器用の成形材料に適した全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製造方法を提供する。【構成】 末端にアミノ基を有するスチレン系重合体(A)と、芳香族ジヒドロキシ化合物(B)及び芳香族ジカルボン酸ジハライド(C)とを、(A)/〔(B)+(C)〕が20/80〜80/20(重量比)となる割合で界面重合させる全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製造方法である。【効果】 従来の重合法と比較して共重合化していないスチレン系重合体の含有量が低く、かつ、複屈折が低くて良好な光学機器素材として使用できる。また、全芳香族ポリエステルとスチレン系重合体のブレンド物中に添加し、その相溶性、引張強度、曲げ強度、曲げ弾性率等を強化することができる。

Claim (excerpt)：

末端にアミノ基を有するスチレン系重合体(A)と、芳香族ジヒドロキシ化合物(B)及び芳香族ジカルボン酸ジハライド(C)とを、(A)/〔(B)+(C)〕が20/80〜80/20(重量比)となる割合で界面重合させることを特徴とする全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製造方法。

IPC (6)：

C08G 63/79 NMF ,  C08G 63/18 NNP ,  C08G 69/44 NSR ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391 ,  G11B 7/24 526