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J-GLOBAL ID：200903036441396821

低刺激性抗菌化粧料

Inventor： 芹澤 哲志 ,  宇田川 昭洋 ,  横幕 敦司 ,  佐藤 円康
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999360161
Publication number (International publication number)：2001172159
Application date： Dec. 20, 1999
Publication date： Jun. 26, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】 抗菌剤として1-ヒドロキシ-2-ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリチオンから選ばれる1種又は2種以上を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる1種又は2種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性抗菌化粧料。【効果】 本発明の低刺激性抗菌化粧料は、殺菌効果に優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性も高いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型に調製して幅広く利用できる。

Claim (excerpt)：

抗菌剤として1-ヒドロキシ-2-ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリチオンから選ばれる1種又は2種以上を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる1種又は2種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性抗菌化粧料。

IPC (3)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06

FI (5)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/06

F-Term (45)：

4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AB312 ,  4C083AB352 ,  4C083AC012 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC471 ,  4C083AC472 ,  4C083AC532 ,  4C083AC642 ,  4C083AC691 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC811 ,  4C083AC841 ,  4C083AC851 ,  4C083AC852 ,  4C083AC931 ,  4C083AD042 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD192 ,  4C083AD262 ,  4C083AD532 ,  4C083AD662 ,  4C083BB51 ,  4C083BB53 ,  4C083CC01 ,  4C083CC05 ,  4C083CC25 ,  4C083CC37 ,  4C083CC38 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12