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J-GLOBAL ID：200903036452175720

蒸着薄膜の作製法

Inventor： 渡部 行男
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社
Agent (1)： 長谷川 一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992127495
Publication number (International publication number)：1993320882
Application date： May. 20, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：

【要約】【構成】 基板上にセラミック化合物薄膜を蒸着により作製する方法において、目的とするセラミック化合物薄膜を構成する金属の少なくとも一つからなるターゲットに短パルス状のエネルギービームを照射して薄膜を堆積させる際、雰囲気ガスとして該セラミック化合物の構成元素を含有するガスと負イオン生成エネルギーが正であるガスとの混合ガスを用いることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。【効果】簡便にセラミック化合物の構成元素を含有するガスを活性化することにより、蒸着薄膜に気体構成元素を取り込み易くして、セラミック化合物蒸着薄膜の特性を向上することができる。

Claim (excerpt)：

基板上にセラミック化合物の薄膜を蒸着により作製する方法において、目的とするセラミック化合物薄膜を構成する金属の少なくとも一つからなるターゲットに短パルス状のエネルギービームを照射してセラミック化合物薄膜を堆積させる際、雰囲気ガスとして該セラミック化合物を構成する元素を含有するガスと負イオン生成エネルギーが正であるガスとの混合ガスを用いることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。

IPC (6)：

C23C 14/28 ,  C01B 13/14 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C30B 25/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H01L 39/24 ZAA