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J-GLOBAL ID:200903036470869690

磁気応答性粒子を洗浄する方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  戸水 辰男
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003550585
Publication number (International publication number):2005511066
Application date: Dec. 06, 2002
Publication date: Apr. 28, 2005
Summary:
本発明は、磁気応答性粒子の例えば常磁性ビーズを洗浄する装置及び方法を特徴とする。1模範的な装置は、入口及び出口を有するフローチャンバ;並びに少なくとも第1の磁場インデューサーを含む。第1の磁場をフローチャンバ中で選択的に適用できるように、本装置を構成する。本装置はまた、磁場の選択的な適用と連係して、流体の流れをチャンバに適用することができる。
Claim (excerpt):
磁気応答性粒子を洗浄する方法であって: 第1の帯域中で第1の磁場によって捕獲された磁気応答性粒子を含むフローチャンバを通して液体を流すことと; 前記第1の磁場を消散させることと; 前記磁気応答性粒子を撹拌することと; を含む方法。
IPC (3):
C12N1/00 ,  C12M1/34 ,  C12Q1/02
FI (3):
C12N1/00 B ,  C12M1/34 A ,  C12Q1/02
F-Term (13):
4B029AA07 ,  4B029FA11 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ05 ,  4B063QQ79 ,  4B063QR48 ,  4B063QR74 ,  4B063QR77 ,  4B063QR83 ,  4B063QS32 ,  4B065BD14 ,  4B065BD50 ,  4B065CA46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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