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J-GLOBAL ID：200903036489401614
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992069446
Publication number (International publication number)：1993234850
Application date： Feb. 18, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：
【要約】【目的】 多重焦点系を構成し、焦点深度を増加させて高解像度の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 照明系1からの光束で第1物体面2上の回路パターンを照明し、該第1物体面上の回路パターンを投影光学系3で第2物体面5上に投影露光する際、該第1物体と第2物体との間の光路中に光学軸を互いに直交させた2つの結晶光学素子4を配置すると共に該投影光学系の瞳面近傍に十字状の開口を有する絞り7をその開口方向が該結晶光学素子の光学軸方向に向くように配置したこと。
Claim (excerpt)：
照明系からの光束で第1物体面上の回路パターンを照明し、該第1物体面上の回路パターンを投影光学系で第2物体面上に投影露光する際、該第1物体と第2物体との間の光路中に光学軸を互いに直交させた2つの結晶光学素子を配置すると共に、該投影光学系の瞳面近傍に十字状の開口を有する絞りをその開口方向が該結晶光学素子の光学軸方向に向くように配置したことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
