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J-GLOBAL ID：200903036497496675

ウエハ熱処理方法およびこれに用いるガードリング構造

Inventor： 福田 永 ,  岩渕 俊之 ,  竹岡 順一 ,  鈴木 敬二
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社 ,  光洋リンドバーグ株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992318330
Publication number (International publication number)：1994163444
Application date： Nov. 27, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 ランプアニールでウエハに「すべり線」損傷を発生させないようにしたウエハ化熱処理方法およびこの方法に用いて好適なガードリング構造を提供する。【構成】 ウエハ20のオリエンテーションフラット部22をガードリングの開口部26と対向させて配置して、両者を赤外放射ランプで加熱する。ガードリング構造は、ガードリングの開口部を迂回するようにして、ガードリングの両端部間に橋絡させた補助リング部38とをもって構成する。ガードリングからの熱放射によりウエハ全面の温度分布が均一化して「すべり線」の発生を抑える。

Claim (excerpt)：

反応炉内の加熱処理空間において、オリエンテーションフラット部を有するほぼ円板状のウエハの外周囲に、少なくとも一か所に開口部を有する、ほぼリング状のガードリングを前記ウエハに対して近接させて、かつ、それぞれの厚みの中心を一致させて配設し、これらウエハとガードリングの少なくとも一方の面側を、前記反応炉外の赤外放射源から赤外線照射を行なって前記ウエハを熱処理するに当たり、前記ウエハのオリエンテーションフラット部を、前記ガードリングの開口部側にこれと対向させて前記ウエハを配設して前記熱処理を行なうことを特徴とするウエハ熱処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/26 ,  H01L 21/324