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J-GLOBAL ID：200903036527592640
温室制御システムおよび温室制御方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003422718
Publication number (International publication number)：2005176721
Application date： Dec. 19, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：
【課題】温室内の栽培環境を良好な状態に保つ。【解決手段】温室内外の温度や温室内外の相対湿度などから換気速度を算出する。算出した換気速度から温室内床面積当たりの潜在追加蒸発散速度を求め、この潜在追加蒸発散速度を温室内床面積当たりの必要細霧発生速度とし、この温室内床面積当たりの細霧発生速度に床面積を乗じることにより温室当たりの必要細霧発生速度を求める。求めた必要細霧発生速度と細霧発生周期(Pfb(s))とから細霧発生時間(Pf(s))を算出する。もしくは、必要細霧発生速度から細霧発生ポンプの必要吐出圧力を算出する。細霧発生中、温室内が高湿度状態(例えば、相対湿度が90%以上)となると、温室への細霧の発生を停止する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
換気口を有する温室へ細霧を供給し、この細霧が気化する際に奪う熱を利用して前記温室内の冷房を行う温室制御システムにおいて、
前記温室の内外の環境に基づいて前記換気口からの換気の速度を算出する換気速度算出手段と、
この換気速度算出手段によって算出された換気速度に基づいて前記温室への細霧の供給速度を制御する細霧供給速度制御手段と
を備えたことを特徴とする温室制御システム。
IPC (1)：
FI (2)：
F-Term (5)：
2B029MA08
, 2B029PA03
, 2B029SE04
, 2B029SF08
, 2B029TA01
Cited by applicant (1)
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栽培ハウス用細霧冷房装置の制御装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2002-105423
Applicant：井関農機株式会社
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