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J-GLOBAL ID：200903036552728432

積層構造体

Inventor： 木村 佳宏 ,  井上 寛子
Applicant, Patent owner： 日本合成化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995136211
Publication number (International publication number)：1996300543
Application date： May. 09, 1995
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 湿熱繰り返し条件下や温冷繰り返し条件下での接着性に優れた円偏光板として有用な積層構造体を提供すること。【構成】 位相差フィルム(1)/アクリル系粘着剤(2)/偏光フィルム(3)/カルボキシル基を有するアルコキシシラン系化合物層(4)/アクリル系粘着剤層(2′)或いはアクリル系粘着剤層(2′)/カルボキシル基を有するアルコキシシラン系化合物層(4)/位相差フィルム(1)/アクリル系粘着剤(2)/偏光フィルム(3)/カルボキシル基を有するアルコキシシラン系化合物層(4)/アクリル系粘着剤層(2′)の構成を有する。

Claim (excerpt)：

位相差フィルム(1)/アクリル系粘着剤(2)/偏光フィルム(3)/カルボキシル基を有するアルコキシシラン系化合物層(4)/アクリル系粘着剤層(2′)の構成を有することを特徴とする積層構造体。

IPC (9)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 7/10 ,  B32B 23/08 ,  B32B 27/00 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/18 ,  B32B 27/30 ,  C09J133/06 JDC ,  G02B 5/30

FI (9)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 7/10 ,  B32B 23/08 ,  B32B 27/00 D ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/18 Z ,  B32B 27/30 A ,  C09J133/06 JDC ,  G02B 5/30