プリント基板用洗浄剤組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：秋元輝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991281950
Publication number (International publication number)：1993098292
Application date： Oct. 03, 1991
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は従来技術の持つ欠点を改良し、特に除去の難しいハンダ用フラックスによる汚れの除去性、安全性に優れかつ環境汚染のない洗浄剤組成物を安価に提供することを目的とする。【構成】沸点150から300°Cの範囲にある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力10〜100Kg/cm2 、温度100〜300°Cの条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を用いて該灯油留分中のn-パラフィン類の少なくとも一部を分離、除去することにより得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフェニル等の芳香族炭化水素を含まない沸点150〜240°Cの範囲にある成分を主成分とする(A)成分としての炭化水素留分と、(B)成分としてのある特定の溶剤と(C)成分としての界面活性剤よりなる洗浄剤組成物を提供するものである。

Claim (excerpt)：

以下の(A),(B)および(C)成分からなるプリント基板用洗浄剤組成物。(A)沸点150〜300°Cの範囲にある成分を主とする灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力10〜100Kg/cm2 、温度100〜300°Cの条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を用いて該灯油留分中のn-パラフィン類の少なくとも一部を分離・除去することにより得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフェニルを含まない沸点150〜240°Cの範囲にある成分を主成分とする炭化水素留分100重量部、(B)炭素数3〜18の脂肪族系一価アルコール、エーテル、エステル、一般式R-OCn H2nOH(Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素を示し,nは1,2,3,4の整数を示す)の化合物、非プロトン性極性溶媒からなる群から選ばれる一種または二種以上の溶剤0.001〜30重量部、(C)界面活性剤0.001〜20重量部。

IPC (6)：

C11D 7/50 , C11D 7/60 , B01J 23/85 , H05K 3/26 , C11D 7:26 , C11D 7:24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-146597
特開平3-062896
特開平3-152199

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