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J-GLOBAL ID：200903036592840685
表面処理方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高山 道夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992184396
Publication number (International publication number)：1994000684
Application date： Jun. 18, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レーザによる表面処理方法では、レーザ照射領域近傍に飛散した物質が材料に付着するため、レーザ処理後に除去する必要がある。従来の付着物除去の方法である有機溶剤による洗浄の欠点を解消し、レーザアブレーションにより生じるアブレーション対象物表面の付着物をなくし、対象物表面をアブレーション処理前の状態にしておくこと。【構成】 PGA1を溶液4の中に浸し、溶液4を流す。溶液4は、エキシマレーザ5が透過する窓3cを設けた容器3の中に注入口3aから注入され、排出口3bから排出され、容器3内を循環する。エキシマレーザ5は、窓3cを透過した後、溶液4中を通過しPGA1表面に到達し、アブレーションを行う。アブレーションにより発生した飛散物2は溶液4中に溶解する。
Claim (excerpt)：
レーザ照射による表面処理方法において、液体中で行うことにより、飛散した物質の材料への付着を防止することを特徴する表面処理方法。
IPC (3)：
B23K 26/16
, B23K 26/00
, B23K 26/12
Cited by examiner (7)
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