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J-GLOBAL ID：200903036611528922

処理装置

Inventor： 小 川 直 也 ,  鈴 木 節 雄 ,  大 橋 幸 夫 ,  川 地 孝 典 ,  林 幸 司
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998374624
Publication number (International publication number)：2000189749
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 最小限のオゾン消費により省エネ化を図り、かつ少ない消費電力・小スペースでオゾンにより処理する分解能力が高い処理装置を提供する。【解決手段】 有機化合物や無機化合物を分解処理する処理容器1内に、ノズルが設けられ、水溶液Aがノズル2より処理容器1内に噴霧される。オゾン発生ランプ3によるオゾン発生とUV光によりオゾンが活性化し、オゾンが水溶液A中に溶ける。臭気ガスB中の有機化合物や無機化合物が水溶液中のオゾンにより分解される。

Claim (excerpt)：

被処理物体が導入されるとともに処理物体が排出される処理容器と、処理容器内に設けられ、オゾンを発生させるオゾン発生光源と、処理容器内にオゾンを溶解するための液体を噴射させる液体供給手段と、を備えたことを特徴とする処理装置。

IPC (7)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  A61L 9/015 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (6)：

B01D 53/34 116 F ,  A61L 9/015 ,  C01B 13/10 Z ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  B01D 53/34 ZAB

F-Term (44)：

4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080HH02 ,  4C080HH03 ,  4C080KK06 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080LL04 ,  4C080MM08 ,  4C080NN01 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA09 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA20 ,  4D002DA35 ,  4D002DA41 ,  4D002DA51 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB08 ,  4D002HA10 ,  4D050AA20 ,  4D050AB04 ,  4D050BA20 ,  4D050BB02 ,  4D050BC05 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4G042CE04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭54-136571
  
• 特開昭62-221424
  
• 排ガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-317245   Applicant：日立プラント建設株式会社
• 特開昭51-010174