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J-GLOBAL ID：200903036629254048

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 中尾 元 ,  佐藤 健一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003088358
Publication number (International publication number)：2004294870
Application date： Mar. 27, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：

【課題】PEB(Post Exposure Bake)時間依存性の点で十分に優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A-1)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(A-2)少なくとも2種の特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大しない樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶媒を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A-1)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (A-2)少なくとも一般式(I)で表わされる繰り返し単位及び一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大しない樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)溶剤を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 ,  C08F216/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 ,  C08F216/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  H01L21/30 502R

F-Term (33)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AE02P ,  4J100AE04P ,  4J100AE09P ,  4J100AK32Q ,  4J100AM43Q ,  4J100AM47Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38