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J-GLOBAL ID：200903036643188260

排ガス処理装置

Inventor： 村井 剛
Applicant, Patent owner： エム・セテツク株式会社
Agent (1)： 森 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991290507
Publication number (International publication number)：1993096126
Application date： Oct. 08, 1991
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、排ガスと薬液との気-液接触を最大限にする事により排ガス処理効率を向上させて装置をコンパクトにまとめると同時に装置費用やメンテナンス費用もできる限り小さくする事にある。【構成】 箱形の装置本体(1)の天井部から垂下板(2)を垂下すると共に底部から立設板(3)を立設し、これら垂下板(2)と立設板(3)とを交互に配置して上下にジグザグ状になった排ガス通路(4)を装置本体(1)内に形成し、装置本体(1)内に薬液(5)を貯水すると共に、垂下板(2)と立設板(3)との間に排ガス流通マット(6)を配設した事を特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

箱形の装置本体の天井部から垂下された垂下板と、底部から立設した立設板とを交互に配置して上下にジグザグ状になった排ガス通路を装置本体内に形成し、装置本体内に薬液を貯水すると共に垂下板と立設板との間に排ガス流通マットを配設して成る事を特徴とする排ガス処理装置。

IPC (2)：

B01D 53/34 ,  B01D 53/18