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J-GLOBAL ID：200903036659640678

表面処理方法、表面処理装置、防眩層の形成方法、防眩性フィルム、及び、防眩性低反射フィルム

Inventor：
水野 航

About 水野 航

, 
前田 菊男

About 前田 菊男

, 
深沢 孝二

About 深沢 孝二


Applicant, Patent owner：
コニカミノルタホールディングス株式会社

About コニカミノルタホールディングス株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005127669
Publication number (International publication number)：2006306909
Application date： Apr. 26, 2005
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
【課題】 処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。【解決手段】 少なくとも表面付近にプラズマ耐性が異なる複数の物質による不均一な組成を有する被処理物の表面を、大気圧または大気圧近傍の圧力下において窒素ガス及び反応性ガスを含むプラズマ状態の混合ガスに曝す大気圧プラズマ処理によって、前記被処理物の表面に凹凸及び空隙を形成することを特徴とする表面処理方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
少なくとも表面付近にプラズマ耐性が異なる複数の物質による不均一な組成を有する被処理物の表面を、大気圧または大気圧近傍の圧力下において窒素ガス及び反応性ガスを含むプラズマ状態の混合ガスに曝す大気圧プラズマ処理によって、前記被処理物の表面に凹凸及び空隙を形成することを特徴とする表面処理方法。
IPC (4)：
C08J 7/00 ,  G02B 5/30 ,  H05H 1/24 ,  G02B 1/11
FI (5)：
C08J7/00 306 ,  C08J7/00 ,  G02B5/30 ,  H05H1/24 ,  G02B1/10 A
F-Term (20)：
2H049BA02 ,  2H049BB63 ,  2H049BB65 ,  2H049BC22 ,  2K009AA01 ,  2K009AA12 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009DD00 ,  2K009DD15 ,  2K009DD17 ,  4F073AA06 ,  4F073AA14 ,  4F073BA03 ,  4F073BA19 ,  4F073BA23 ,  4F073BA26 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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