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J-GLOBAL ID：200903036662834831
光励起ガス反応装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993029373
Publication number (International publication number)：1994244159
Application date： Feb. 18, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】ガス励起槽2と反応室との間を励起光を被処理物7に照射しないように、光遮蔽構造5とする。【効果】励起光が直接被処理物に照射されないので光エネルギによる被処理物の損傷をなくすことが出来る。
Claim (excerpt)：
光源によってガスを励起する手段と励起ガスを輸送する手段と前記励起ガスと被処理物を反応せしめる手段を有し、前記光源と前記被処理物の間に光を遮る手段を設けたことを特徴とする光励起ガス反応装置。
IPC (7)：
H01L 21/302
, C23C 14/22
, C23F 4/00
, G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/31
, H01L 21/304 341
