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J-GLOBAL ID：200903036675846855

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002246979
Publication number (International publication number)：2004085900
Application date： Aug. 27, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】現像欠陥が低減され、矩形なプロファイルを可能とするポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)特定の脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂及び(C)水酸基又は置換された水酸基を少なくともひとつ有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)水酸基又は置換された水酸基を少なくともひとつ有する化合物、及び (B1)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂又は(B2)下記一般式(II)で表される繰り返し単位及び一般式(III)で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F7/039 ,  C08F216/14 ,  C08F222/04 ,  C08F224/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (6)：

G03F7/039 601 ,  C08F216/14 ,  C08F222/04 ,  C08F224/00 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (45)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AE06P ,  4J100AE09P ,  4J100AK32Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AR11R ,  4J100AR32P ,  4J100AR32R ,  4J100AU29Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA05P ,  4J100BA10P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA20R ,  4J100BA40S ,  4J100BC04P ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100JA38