Pat
J-GLOBAL ID：200903036679850423
光ディスク原盤の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993306893
Publication number (International publication number)：1995161078
Application date： Dec. 07, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】 現像時に光ディスクのピットとグルーブの形成を精度よく現像制御して信号特性を同時制御することができる光ディスク原盤の製造方法の提供を目的とする。【構成】 光ディスク原盤の現像を行いながら、現像で形成される凸領域のピット部分を透過して得られる参照光の回折光レベルを検出するステップS10と、このステップS10で得られた回折光レベルからレベル比を算出するステップS11と、ステップS11での算出した値に応じて現像処理を停止させるかステップ12で判断し、この判断に応じて現像処理の停止を制御するステップ13を順次行う。
Claim (excerpt)：
フォトレジストを塗布後に露光された光ディスク原盤を現像する光ディスク原盤の製造方法において、上記光ディスク原盤の現像を行いながら、現像で形成される凸領域を透過して得られる参照光の回折光レベルを検出する回折光レベル検出工程と、前記回折光レベル検出工程で得られた回折光レベルからレベル比を算出するレベル比算出工程と、前記レベル比算出工程での算出した値に応じて現像処理を停止させる現像停止制御工程とを有することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
