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J-GLOBAL ID：200903036691144909

露光装置および露光方法

Inventor： 加藤 正紀
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999077701
Publication number (International publication number)：2000277408
Application date： Mar. 23, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ステップ・アンド・スキャン方式を用いて、オーバーラップ露光による画面合成を高精度に行う。【解決手段】 感光性基板(14)上にて互いに一部重複した複数の単位露光領域のそれぞれに複数のマスク(12)のパターン像を所定の露光視野を有する投影系(13)を用いて順次露光する。ここで、単位露光領域にて複数のマスクのパターン像を順次走査露光するために、投影系に対してマスクと感光性基板とを所定の走査方向に相対的に移動させる。また、複数の単位露光領域が一部重複した重複露光領域と該重複露光領域以外の非重複露光領域とに亘って露光量分布がほぼ均一となるように、重複露光領域を走査露光するときに露光視野を変化させる。

Claim (excerpt)：

所定の被照明面に設定されたマスクを照明光で照明する照明系と、前記マスクのパターン像を所定の露光視野のもとで感光性基板に投影する投影系と、被照明面に複数のマスクを順次設定するマスク交換手段とを備え、前記感光性基板上にて一部重複した複数の単位露光領域のそれぞれに前記複数のマスクのパターン像を順次露光する露光装置において、前記単位露光領域にて前記複数のマスクのパターン像を順次走査露光するために、前記投影系に対して前記マスクと前記感光性基板とを所定の走査方向に相対的に移動させる走査手段と、前記複数の単位露光領域が一部重複した重複露光領域と該重複露光領域以外の非重複露光領域とに亘って露光量分布がほぼ均一となるように、前記重複露光領域を走査露光するときに前記露光視野を変化させる露光視野制御手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/06 ,  G03F 7/23

FI (5)：

H01L 21/30 514 C ,  G02B 17/06 ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 518

F-Term (27)：

2H087KA21 ,  2H087LA24 ,  2H087RA26 ,  2H087RA37 ,  2H087TA01 ,  2H087TA03 ,  5F046BA05 ,  5F046CA02 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB06 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046CC02 ,  5F046DA02 ,  9A001HH28 ,  9A001HH34 ,  9A001JJ46 ,  9A001KK16 ,  9A001KK36 ,  9A001KK42 ,  9A001KZ29 ,  9A001KZ37