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J-GLOBAL ID：200903036692570758

プラズマエッチング用電極板

Inventor： 箕浦 誠司 ,  堀尾 泰臣 ,  鷲見 友男
Applicant, Patent owner： イビデン株式会社
Agent (1)： 小島 清路
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992361434
Publication number (International publication number)：1994204181
Application date： Dec. 29, 1992
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 プラズマエッチングのエッチング均一性を改善する。【構成】 プラズマエッチング装置の容器の内壁上面に固定された上部電極部材に取り付けて使用する電極板20に、中心から所定範囲の円形領域内に一定の分布密度で反応ガス流通用の小孔hを設ける。円形領域内の中心から所定範囲の小円形領域A1内の小孔hの直径をその外側の環状領域A2の小孔hの直径より小さくする。これにより、電極板全面から流出する反応ガスの密度が均一にされ、プラズマエッチングの均一性が改善される。また、各小孔hの開口の周縁部eに面取り加工を施して、周縁部を曲面形状にする。これにより、放電時において、開口の周縁部に電界集中が生じなく、電極板の磨耗が少なくなり、基板上へのゴミの落下が抑えられてエッチングの信頼性が高められる。

Claim (excerpt)：

プラズマエッチング装置のチャンバ内の下部に取り付けられた基板を載置する下部電極板と対向して同チャンバ内の上部に取りつけられ、外部の反応ガス供給源から供給管を介して供給される反応ガスを通過させてチャンバ内に導く多数の小孔を備えた円板形状のプラズマエッチング用電極板において、前記小孔を前記プラズマエッチング用電極板の中心から所定範囲の円形領域内に一定の分布密度で設けると共に、同円形領域内の中心から所定範囲の小円形領域に設ける小孔の直径を、同小円形領域の外側の環状領域に設ける小孔の直径より小さくしたことを特徴とするプラズマエッチング用電極板。

IPC (4)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  C30B 33/12 ,  H05H 1/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-064128
  
• 特開昭60-046029
  
• 特開昭62-045029