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J-GLOBAL ID：200903036718837731

光学素子成形型及びその製造方法

Inventor：
塩川 孝紳

About 塩川 孝紳

, 
久保田 幸雄

About 久保田 幸雄


Applicant, Patent owner：
ペンタックス株式会社

About ペンタックス株式会社


Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001322771
Publication number (International publication number)：2003128423
Application date： Oct. 19, 2001
Publication date： May. 08, 2003
Summary：
【要約】【課題】 非球面や回折パターン等の微細で高精度な成形面を得ることができ、しかも成形時の加熱冷却の繰り返しによっても優れた耐久性を有する光学素子成形型、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の光学素子成形型は、母材1と、接合層媒体3と、外層材2と、外層材の成形面に形成されたニッケル層4及び保護膜5とを有し、接合層媒体3は母材側で母材成分を多く、外層材側で外層材成分を多く含み、その間の成分比を段階的又は傾斜的に変化させた成分からなり、母材1と外層材2は接合層媒体3を介して焼結接合しており、外層材の成形面に形成されたニッケル層4は切削加工が施されており、ニッケル層4はさらに保護膜5が形成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
光学素子材料を加熱軟化させた後、一対の成形型により押圧成形して光学素子を成形する光学素子成形型において、前記成形型は母材と、接合層媒体と、外層材と、外層材の成形面に形成されたニッケル層及び保護膜とを有し、前記接合層媒体は、前記母材側で前記母材成分を多く、前記外層材側で前記外層材成分を多く含み、その間の成分比を段階的又は傾斜的に変化させた成分からなり、前記母材と前記外層材は、前記接合層媒体を介して焼結接合しており、前記外層材の成形面に形成されたニッケル層は切削加工が施されており、前記ニッケル層はさらに前記保護膜が形成されていることを特徴とする光学素子成形型。
IPC (3)：
C03B 9/48 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/18
FI (3)：
C03B 9/48 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/18
F-Term (3)：
2H049AA03 ,  2H049AA39 ,  2H049AA45
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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