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J-GLOBAL ID：200903036734880361

臭素イオン含有水処理装置

Inventor： 高橋 和義 ,  江川 健
Applicant, Patent owner： 住友重機械工業株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001013456
Publication number (International publication number)：2002210462
Application date： Jan. 22, 2001
Publication date： Jul. 30, 2002
Summary：

【要約】【課題】 被処理水のオゾン処理で生じ得る臭素酸イオンの発生を防止でき、保守性や装置寿命に優れると共に、処理済水中に有害成分が混合されることがなく、しかも、コストの増大を抑制できる臭素イオン含有水処理装置を提供する。【解決手段】 水処理装置10は、臭素イオンを含み得る被処理水Wが供給される着水井2に、オゾン処理槽6、膜分離装置7及びオゾン分解部8が、それぞれラインL1,L5,L6を介してこの順に接続されたものである。被処理水Wは、着水井2で夾雑物等が除去された後、オゾン処理槽6に導入されてオゾン処理される。次に、被処理水Wは膜分離装置7で膜ろ過された後、オゾン分解部8において触媒処理叉は電解処理が施され、残存オゾンが分解される。これにより、臭素イオンの酸化が防止され、処理済水Ws中の臭素酸イオン濃度が低く抑えられる。

Claim (excerpt)：

臭素イオンを含有する被処理水を膜ろ過する膜分離部を有する臭素イオン含有水処理装置であって、前記膜分離部の前段に設けられており、前記被処理水が導入され、且つ、該被処理水にオゾンが供給されるオゾン処理部と、前記オゾン処理部の後段に設けられており、前記オゾンを含む被処理水が導入され、且つ、触媒を有するオゾン分解部と、を備えることを特徴とする臭素イオン含有水処理装置。

IPC (4)：

C02F 1/44 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/78

FI (4)：

C02F 1/44 H ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/78 ,  C02F 1/46 101 Z

F-Term (48)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KA01 ,  4D006KB30 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MB02 ,  4D006MB11 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB24 ,  4D006PB34 ,  4D006PC80 ,  4D050AA03 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB32 ,  4D050AB44 ,  4D050BA14 ,  4D050BB02 ,  4D050BC04 ,  4D050BC05 ,  4D050BC06 ,  4D050BC07 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA10 ,  4D061DA03 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA04 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB20 ,  4D061EB29 ,  4D061EB39 ,  4D061FA09 ,  4D061FA16 ,  4D061GC12 ,  4D061GC14