スルホニウム塩及びその用途

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001372870
Publication number (International publication number)：2003171363
Application date： Dec. 06, 2001
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：

【要約】【課題】新規なスルホニウム塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度やプロファイルに優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、R1、R2、R3は、互いに独立に、水素、水酸基、ハロゲン、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。式中、Qは、少なくとも一つのフッ素で置換されている脂環式炭化水素基を示す。)〔2〕酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂と、〔1〕に記載の化合物とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、R1、R2、R3は、互いに独立に、水素、水酸基、ハロゲン、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。式中、Qは、少なくとも一つのフッ素で置換されている脂環式炭化水素基を示し、該脂環式炭化水素基は、水酸基、フッ素以外のハロゲン、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基で置換されていても良い。該アルキル基及び該アルコキシ基は、それぞれ独立に、水酸基又はハロゲンで置換されていても良い。)

IPC (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601

FI (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601

F-Term (17)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76 , 4H006AB92

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

感光性耐食膜組成物および方法ならびに同組成物を含む工業製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-043762 Applicant：シプレイ・カンパニー・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー
フォトレジスト組成物、その方法及びそれらを含有してなる工業製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-252064 Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-060057 Applicant：住友化学工業株式会社

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