Pat

J-GLOBAL ID：200903036794562598

セラミック被覆の低温形成方法

Inventor： ローレン アンドリュー ハルスカ ,  キース ウイントン マイケル
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング コーポレーシヨン
Agent (1)： 浅村 皓 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1990800027
Publication number (International publication number)：1995025606
Application date： Apr. 17, 1990
Publication date： Jan. 27, 1995
Summary：

【要約】 電子出願以前の出願であるので要約・選択図及び出願人の識別番号は存在しない。

Claim (excerpt)：

基板上にセラミックまたはセラミック状の被覆を形成する方法であって、(a)上記基板を溶剤内に稀釈された水素シルセスキオキサン(hydrogen silsesquioxane)樹脂からなる溶液で被覆し、(b)上記溶剤を蒸発させ、これによって上記基板にプレセラミック被覆を沈積させ、且つ(c)オゾンの存在下で約40乃至400°Cの間の温度に加熱することにより上記プレセラミック被覆を二酸化ケイ素含有セラミックにセラミック化する段階から構成されることを特徴とする方法。

IPC (3)：

C01B 33/12 ,  C01B 33/20 ,  H05K 1/03