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J-GLOBAL ID：200903036827039390

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  富岡 淳 ,  李 相昊
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000081599
Publication number (International publication number)：2001264968
Application date： Mar. 23, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】 感度や解像度などの諸性能を損なうことなく、プロファイルを向上させるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及びN-(n-オクチルスルホニルオキシ)スクシンイミドを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及びN-(n-オクチルスルホニルオキシ)スクシンイミドを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/41 ,  C08L 61/10 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/41 ,  C08L 61/10 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002CC031 ,  4J002EQ036 ,  4J002EU027 ,  4J002EV237 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03