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J-GLOBAL ID：200903036830341951

位置検出方法及び装置

Inventor： 千徳 孝一 ,  稲 秀樹
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000202073
Publication number (International publication number)：2002022410
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jan. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 位相差検出方式のようにコントラストは上がるが大きな「TIS」の発生要因となる方式でなく、CMP等の低段差のプロセスにおいても、安定して高精度を得ることが可能となる位置検出方法及び装置を提供する。【解決手段】 光源2から出射するコヒーレント光をインコヒーレント光に変換させる拡散板3と、この光をウエハ1上のマーク1A,1Bに照明する照明系54と、その照明光の光路の一部を分岐させた別の光路上に設けた、ウエハ1上のマーク1A,1B位置と光学的に共役な反射面位置で反射させるミラー7と、マーク1A,1Bからの反射光とミラー7の反射面からの反射光とを重ね合わせて干渉させる偏光ビームスプリッタ55と、この干渉作用により形成される干渉縞からウエハ1上のマーク1A,1B位置を検出するように構成した。

Claim (excerpt)：

被検物の被検面上のパターンを光学系によって光電変換素子に結像させ、その光電変換素子から出力される信号に基づき、前記被検物の被検面上のパターンの位置を計測する位置検出方法であって、光源から出射するコヒーレントな光をインコヒーレント化させ、そのインコヒーレント光で前記被検物の被検面上のパターンを照明し、その照明光の光路の一部を分岐させた別の光路上の、前記被検物の被検面上のパターン位置と光学的に共役な反射面位置で反射させ、前記被検物の被検面上のパターンからの反射光と前記共役な反射面からの反射光とを重ね合わせて干渉させ、前記被検物の被検面上のパターン位置を検出することを特徴とする位置検出方法。

IPC (6)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G02B 5/30 ,  G02B 21/12 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G02B 5/30 ,  G02B 21/12 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 T

F-Term (57)：

2F064AA02 ,  2F064CC01 ,  2F064CC04 ,  2F064FF02 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG23 ,  2F064GG32 ,  2F064GG38 ,  2F064GG58 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065DD09 ,  2F065FF51 ,  2F065GG05 ,  2F065GG21 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL49 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ34 ,  2H049BA07 ,  2H049BB03 ,  2H049BC12 ,  2H049BC21 ,  2H052AA04 ,  2H052AC07 ,  2H052AC25 ,  2H052AC26 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AF04 ,  2H052AF14 ,  5F046FA05 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FB07 ,  5F046FB09 ,  5F046FB10 ,  5F046FB12