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J-GLOBAL ID:200903036863334942

磁気転写方法および磁気転写装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001047809
Publication number (International publication number):2002251723
Application date: Feb. 23, 2001
Publication date: Sep. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】 マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写が行えるようにする。【解決手段】 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体2をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担体3とスレーブ媒体2を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の印加角度αをスレーブ面に対して垂直方向で±30度以内に規定する。また、転写用磁界の印加角度をスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±30度以内に規定する。
Claim (excerpt):
基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の印加角度がスレーブ面に対して垂直方向で±30度以内であることを特徴とする磁気転写方法。
IPC (2):
G11B 5/86 101 ,  G11B 5/86
FI (2):
G11B 5/86 101 B ,  G11B 5/86 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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