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J-GLOBAL ID：200903036866525285

オゾン注入方法

Inventor： 石田 宏司 ,  鳥山 明夫 ,  南 宏和 ,  上坂 太一
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993010361
Publication number (International publication number)：1994218383
Application date： Jan. 26, 1993
Publication date： Aug. 09, 1994
Summary：

【要約】【構成】 各反応領域1bにおけるオゾンガスの注入率を、当該反応領域1bにおける被処理水の性状に応じて固有の適値のオゾン吸収効率を維持するように設定し、各反応領域で吸収するオゾン吸収量の総和量が被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するために費やす消費オゾン総量を賄えるように、各反応領域1bにおけるオゾンガスの注入を多段的に行う。【効果】 各反応領域1bにおいてオゾン浪費物質によって消費されるオゾンの消費率を最小に抑制して有機物除去効率を最大にすることができ、連続反応槽1の全体において浪費するオゾン量の抑制を図るとともに、吸収したオゾンにより効率良く有機物の分解を行うことができる。

Claim (excerpt)：

複数段の反応領域を形成する連続反応槽において、各反応領域ごとに被処理水にオゾンガスを注入して、オゾンによる有機物の分解により被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するに際し、各反応領域におけるオゾンガスの注入率を、当該反応領域における被処理水の性状に応じて固有の適値のオゾン吸収効率を維持するように設定し、各反応領域で吸収するオゾン吸収量の総和量が被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するために費やす消費オゾン総量を賄えるように、各反応領域におけるオゾンガスの注入を多段的に行うことを特徴とするオゾン注入方法。

IPC (3)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/10 ZAB ,  C02F 1/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-225895
  
• 特開昭51-141468
  
• 特開平4-225895
  
• 特開昭51-141468