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J-GLOBAL ID：200903036884083508

高屈折率光学材料およびその製造法

Inventor： 残 華 幸 仁 ,  井 坂 勉 ,  田 村 豊
Applicant, Patent owner： 三菱油化株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992092993
Publication number (International publication number)：1993287050
Application date： Apr. 13, 1992
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 軽量性、高屈折率、透明性および耐衝撃性の点で改善されたレンズ材料の提供。【構成】 下記式〔I〕の含イオウ(メタ)アクリル単量体とメルカプト化合物と複数個の-NCO基を有するイソシアネート化合物からなる組成物を、ラジカル重合開始剤およびウレタン化反応触媒の存在下に紫外線照射に付して、ラジカル重合またはラジカル重合とウレタン化反応とを同時に行なった後、加熱により重合を完結させることにより得られる樹脂からなる高屈折率光学材料、およびその製造法。〔式中、R1は水素原子またはメチル基、R2およびR3はそれぞれ炭素数1〜12の炭化水素基、Xはフッ素を除くハロゲン原子、を表わし、nは0または1〜4の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい〕

Claim (excerpt)：

下記の成分A、BおよびCを含んでなる組成物を熱および(または)活性エネルギー線および(または)エチレン性不飽和結合に対するラジカル発生剤および(または)ウレタン化反応触媒の作用に付すことによって重合硬化させてなる樹脂からなることを特徴とする、高屈折率光学材料。成分(A):下式〔I〕で表される含イオウ(メタ)アクリル単量体【化1】〔各式中、それぞれ、R1は水素原子またはメチル基、R2およびR3はそれぞれ炭素数1〜12の炭化水素基、Xはフッ素を除くハロゲン原子、を表わし、nは0または1〜4の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕成分(B):下式〔II〕、〔III 〕および〔IV〕でそれぞれ表される化合物からなる群から選ばれるメルカプト化合物〔式中、R4は-CH2-または-CH2CH2-を示し、R5はエーテル酸素を含んでもよい炭素数2〜15の炭化水素残基を示し、aは2〜6の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕【化2】c-(式中、bおよびcはそれぞれ1〜8の整数を示し、dは0〜2の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕【化3】〔式中、Zはフッ素を除くハロゲン原子、e、f、e′およびf′はそれぞれ1〜3の整数、gおよびg′はそれぞれ0〜2の整数、を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕ただし、成分(B)/成分(A)の重量比は、5/95〜50/50である。成分(C):複数個の-NCO基を有するイソシアネート化合物。ただし、成分(C)の-NCO基と成分(A)および(B)の化合物の-SH基の合計との比-SH/-NCOは、1/3〜3/1である。

IPC (2)：

C08G 18/67 NFA ,  G02B 1/04