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J-GLOBAL ID:200903036963364857
好ましい破壊特性を有するヒドロゲル形成高分子材料
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中村 稔 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995163268
Publication number (International publication number):1996053518
Application date: Jun. 29, 1995
Publication date: Feb. 27, 1996
Summary:
【要約】【目的】 使い捨て吸収製品における高吸収特性を有するが靭性の増大したヒドロゲル形成高分子材料の提供。【構成】 エチレン系不飽和カルボン酸化合物及びその塩からなる群より選ばれた第1化合物;及びエーテル基及びヒドロキシル基からなる群より選ばれた官能基を含む第2化合物;から調製されたヒドロゲル形成高分子材料であって、荷重下吸収値少なくとも約14及び該第2化合物を存在させずに調製されるほかは実質的に同一のヒドロゲル形成高分子材料によって示された相対破壊抵抗値より少なくとも約25%大きい相対破壊抵抗値を示すヒドロゲル形成高分子材料を使用する。
Claim (excerpt):
a.エチレン系不飽和カルボン酸化合物及びその塩からなる群より選ばれた第1化合物;及びb.エーテル基及びヒドロキシル基からなる群より選ばれた官能基を含む第2化合物;から調製されたヒドロゲル形成高分子材料であって、荷重下吸収値少なくとも約14を示しかつ該第2化合物を存在させずに調製されるほかは実質的に同一のヒドロゲル形成高分子材料によって示された相対破壊抵抗値より少なくとも約25%大きい相対破壊抵抗値を示すヒドロゲル形成高分子材料。
IPC (8):
C08F220/04 MLP
, B01J 13/00
, C08F222/02 MLR
, C08F290/06 MRS
, C08L 29/04 LGT
, C08L 33/02 LHR
, C08L 35/00
, C08L 39/04 LJY
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