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J-GLOBAL ID：200903036967655279

干渉測定方法および干渉測定装置

Inventor： 塚田 英樹 ,  川上 潤
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (2)： 渡辺 隆男 ,  大澤 圭司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004265673
Publication number (International publication number)：2006078446
Application date： Sep. 13, 2004
Publication date： Mar. 23, 2006
Summary：

【課題】 コヒーレントノイズを低減し高精度な干渉測定方法および干渉測 定装置を提供する。 【解決手段】 光を光源から出射させ、前記光を分割して、一方は測定すべき光学系または光学部品を透過または反射させて被検光を生成し、他の一方は参照面を透過または反射させて参照光を生成し、前記被検光と前記参照光を干渉させ、干渉状態により前記測定すべき光学系または光学部品の波面を測定する干渉測定方法であって、前記光源から出射させた光束は、少なくとも2つの位相変調器を通過させることを特徴とする。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

光を光源から出射させ、前記光を分割して、一方は測定すべき光学系または光学部品を透過または反射させて被検光を生成し、他の一方は参照面を透過または反射させて参照光を生成し、前記被検光と前記参照光を干渉させ、干渉状態により前記測定すべき光学系または光学部品の波面を測定する干渉測定方法であって、 前記光源から出射させた光束は、少なくとも2つの位相変調器を通過させることを特徴とする干渉測定方法。

IPC (3)：

G01B 9/02 ,  G01M 11/00 ,  G01M 11/02

FI (3)：

G01B9/02 ,  G01M11/00 T ,  G01M11/02 B

F-Term (11)：

2F064BB03 ,  2F064CC01 ,  2F064EE01 ,  2F064EE04 ,  2F064EE05 ,  2F064FF02 ,  2F064FF05 ,  2F064GG51 ,  2G086EE07 ,  2G086EE12 ,  2G086HH06