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J-GLOBAL ID：200903036976925939
集積光デフレクタおよびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
頓宮 孝一 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992324029
Publication number (International publication number)：1993259584
Application date： Dec. 03, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 集積光デフレクタおよび、その理想的な幾何学形状の特徴および利点を有するデフレクタ構成を製造するための製造方法を提供する。【構成】 その方法に従えば、デフレクタ面を形成するために厚膜フォトレジスト110およびマスク112を用いて基板102の表面の上に成形型が作られる。そのフォトレジスト110およびマスク112に、平行光ビームIが適切な入射角で照射される。現像されたレジスト112は、デフレクタ本体が鋳造される成形型を付与し、その正面がデフレクタ面として機能するデフレクタ本体を残す。
Claim (excerpt)：
大規模レーザ集積装置の内部に光デフレクタを製造するための方法であって、基板上にフォトレジスト材料の被膜を塗布する段階と、前記被膜の選択位置にマスクを置くことによって前記フォトレジスト被膜のマスク部分および隣接する非マスク部分を作成する段階であり、前記マスクは作成すべき光デフレクタの選択位置を規定するマスキングエッジを有するものである、前記段階と、作成すべき光デフレクタの選択された傾斜角に対応する選択された入射角で平行光ビームに前記フォトレジスト被膜のマスク部分および隣接する非マスク部分を露光させる段階と、前記フォトレジスト被膜のマスク部分に対応し、前記フォトレジスト被膜の表面から前記基板まで延びるキャビティを作るために、前記マスクを除去し、前記フォトレジスト被膜を現像する段階と、前記キャビティにデフレクタ材料を充填することによって、作成すべき光デフレクタを鋳造する段階とを含むことを特徴とする方法。
IPC (3)：
H01S 3/18
, H01L 27/15
, H01S 3/096
