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J-GLOBAL ID：200903036982749026

ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法

Inventor： 糸井 泰
Applicant, Patent owner： 荒川化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999358658
Publication number (International publication number)：2001002617
Application date： Dec. 17, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 簡潔な反応系かつ温和な反応条件下において、ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類を製造する方法を提供すること。【解決手段】 パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A)および/または活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)の存在下に、溶媒中でビフェノール類を水素化還元することを特徴とするヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法;前記製造法に用いる、パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A);前記製造法に用いる、活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)。

Claim (excerpt)：

パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A)および/または活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)の存在下に、溶媒中でビフェノール類を水素化還元することを特徴とするヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法。

IPC (6)：

C07C 45/29 ,  B01J 23/44 ,  B01J 27/232 ,  C07C 45/62 ,  C07C 49/747 ,  C07B 61/00 300

FI (6)：

C07C 45/29 ,  B01J 23/44 X ,  B01J 27/232 X ,  C07C 45/62 ,  C07C 49/747 B ,  C07B 61/00 300

F-Term (25)：

4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC11 ,  4H006AC44 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA09 ,  4H006BA14 ,  4H006BA25 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA51 ,  4H006BA53 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BE20 ,  4H039CA62 ,  4H039CB10