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J-GLOBAL ID:200903036983529194
光モジュール及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004164084
Publication number (International publication number):2005347441
Application date: Jun. 02, 2004
Publication date: Dec. 15, 2005
Summary:
【課題】コア部分と光素子との結合が容易には劣化しない光モジュールを提供すること。【解決手段】型枠M1及びM2を組み合わせると、POF1を固定する部分1m、受光素子2を固定する部分2m、発光素子3を固定する部分3m及び波長選択性ミラー4を固定する部分4mと、光硬化性樹脂液6を充填する部分6mが連続した空洞として形成される。光硬化性樹脂液6を充填する部分6mは、直径2μm程度の大きさとし、POF1から硬化波長光を導入して、自己形成的に直径1μmの軸状のコア6cが形成可能である。これにより図2.Bのような光モジュール主要部が形成される。【選択図】図2
Claim (excerpt):
予め形成した光導波路と、1又は複数個の光素子とを、光硬化性樹脂を用いて形成したコアで接続した光モジュールの製造方法において、
前記光導波路と、前記光素子とを着脱可能に保持し、且つ未硬化の前記光硬化性樹脂を必要な位置に保持可能な固定部材を用いてこれらを保持する部品固定工程と、
前記光導波路の先端から、前記光硬化性樹脂を硬化させる波長の光を未硬化の前記光硬化性樹脂に出射して、前記光硬化性樹脂を硬化させて軸状のコアを形成するコア形成工程と、
当該コアの表面から未硬化の前記光硬化性樹脂を除く未硬化樹脂除去工程と、
前記光導波路の先端部、前記コアの露出した表面及び前記光素子とをクラッド材にて覆うクラッド形成工程とを有し、
前記コア形成工程の後のいずれかの工程で前記固定部材を取り外して、光モジュールを完成させることを特徴とする光モジュールの製造方法。
IPC (6):
H01L33/00
, G02B6/122
, G02B6/13
, G02B6/42
, H01L31/02
, H01L31/0232
FI (8):
H01L33/00 M
, H01L33/00 N
, G02B6/42
, G02B6/12 M
, G02B6/12 B
, H01L31/02 B
, H01L31/02 C
, H01L31/02 D
F-Term (42):
2H047KA04
, 2H047LA09
, 2H047LA12
, 2H047LA18
, 2H047MA05
, 2H047MA07
, 2H047PA02
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H137AB08
, 2H137AB11
, 2H137AC13
, 2H137BA06
, 2H137BA49
, 2H137BA55
, 2H137BB02
, 2H137BB12
, 2H137BC32
, 2H137BC52
, 2H137BC53
, 2H137CA45
, 2H137CC02
, 2H137CC03
, 2H137DA02
, 2H137EA06
, 2H137EA11
, 2H137GA02
, 2H137HA15
, 5F041AA34
, 5F041AA43
, 5F041AA44
, 5F041DA43
, 5F041DA58
, 5F041EE03
, 5F041EE22
, 5F041EE23
, 5F088BA10
, 5F088EA09
, 5F088HA09
, 5F088JA06
, 5F088JA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
光導波路デバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-177650
Applicant:株式会社豊田中央研究所, 豊田合成株式会社
-
光伝送路の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-365223
Applicant:株式会社豊田中央研究所, 豊田合成株式会社
-
光導波路の作製用材料組成物及び光導波路の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-313422
Applicant:東亞合成株式会社, 株式会社豊田中央研究所, 豊田合成株式会社
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Cited by examiner (2)
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