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J-GLOBAL ID：200903036993902969

移相マスクおよびマスキング方法

Inventor： フォーマン・リー
Applicant, Patent owner： モトローラ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 本城 雅則 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992241390
Publication number (International publication number)：1993197131
Application date： Aug. 19, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 移相マスク10,30を作製する方法を提供する。【構成】 マスク・プレート11,31が設けられる。半透明層12,32はマスク・プレート11,31に被着される。次に、半透明層12,32は、所定の形状パターンにパターン化される。半透明層12,32のパターン化は、所定の距離38でマスク・プレート11,31内部まで続けられ、移相マスク10,30を形成する。

Claim (excerpt)：

マスキング・プレート(11);パターン化された半透明層(12’);および前記半透明層(12’)上に重ねられたパターン化された移相層(13’);によって構成されることを特徴とする移相マスク(52)。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W