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J-GLOBAL ID：200903037019258170

ポリエチレン微多孔膜

Inventor： 河野 公一 ,  森 省一 ,  宮坂 健司 ,  田渕 丈一
Applicant, Patent owner： 東燃株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992124768
Publication number (International publication number)：1994016862
Application date： Apr. 27, 1984
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 極薄及び高強度の超高分子量ポリエチレン微多孔膜を提供する。【構成】 重量平均分子量が5×105 以上のポリエチレンからなり、厚さが10μm以下、破断強度が200kg/cm2 以上、空孔率が30%以上であるポリエチレン微多孔膜。従来の方法では得ることができなかった優れた特性を有するポリエチレン微多孔膜を特定の製造法により初めて提供することができた。

Claim (excerpt)：

重量平均分子量が5×105 以上のポリエチレンからなり、厚さが10μm以下、破断強度が200kg/cm2 以上、空孔率が30%以上であるポリエチレン微多孔膜。